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浙江省台州市临海市上盘镇北洋工业园区

半导体


碳化硅(SiC)既是第三代半导体材料(用于功率与射频器件),也常作为半导体设备的关键结构材料(如刻蚀/热处理部件、光刻机工件台等)。其优势在于宽禁带、高导热、高击穿场强,适合高温、高压、高频与强辐照环境。

氧化铝(Al2O3)主要作为半导体设备用的高纯陶瓷部件与涂层(如刻蚀腔体衬里、静电吸盘、喷嘴、抛光板等),以及晶圆制程中的CMP抛光磨料,特点是高绝缘、耐等离子体、化学稳定、成本相对可控。